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真空电镀

浏览:831 发表时间:2018-05-17 13:21:21

真空电镀:Vacuum Metalizing,即是物理气相沉积(PVD),即在真空下将原子打到靶材表面上达到镀膜的目的。最早运用于光学镜片,如航海望远镜镜片,后来随着技术的改进,延伸到了唱片、磁盘、光盘、手机外壳、机械刀具等材料上的装饰镀膜、材料表面改性等。

适用材料

几乎所有金属、合金、及陶瓷材料。

  1. 自然材料会影响真空环境,不适合真空电镀

  2. 除了自然材料以外,适合真空电镀的材料包括金属类材料、软硬塑料(ABS料、ABS+PC料、PC料等等)、复合材料、陶瓷、和玻璃等

  3. 最常用于真空电镀表面处理的是铝、其次是银和铜设计考虑因素

    1. 真空电镀所使用设备通常较为高昂,加上工艺流程复杂,对环境要求高;为此真空电镀单价比水电镀昂贵

    2. 真空电镀受设备内真空环境体积影响,因此对靶材尺寸有一定的要求,不适合大靶材,常见的真空腔室内靶材应小于1.2 * 1.1m(3.94 * 3.3ft),3D工件应小于1.2 * 0.5m(3.94 * 1.6ft)

    3. 真空电镀的工件表面必须保持干燥、光滑,否则会影响处理效果。

    4. 真空电镀可镀色彩丰富,可以镀7色,比水电镀的颜色要丰富,可达到阳极铝、亮铬、金、银、铜和炮铜(一种铜锡合金)等丰富多彩的效果。水电镀一般只有镀铜(红色),镀镍(偏黄的银色),镀金,镀银,镀枪(黑色,有深黑,浅黑等),镀铬(银白色)等单调色彩。

    5. 真空电镀是最常见的金属表面处理技术。

      工艺成本

      真空电镀工艺流程复杂,非常依赖人工操作。工件(靶材)需要喷涂、装卸、再喷涂,并且也取决于工件的复杂度和数量,所以人力成本很高。

      环境影响

      真空环境下辐射小、环境污染小,真空电镀现为各行业中广泛应用。


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