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磁控溅射离子镀

浏览:967 发表时间:2018-03-19 09:15:13

1.定义
   
蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面,称为离子镀。
   
离子镀是真空蒸发与阴极溅射技术的结合。

2.原理
   
蒸发源接阳极,工件接阴极,当通以三至五千伏高压直流电以后,蒸发源与工件之间产生辉光放电。由于真空罩内充有惰性氩气,在放电电场作用下部分氩气被电离,从而在阴极工件周围形成一等离子暗区。带正电荷的氩离子受阴极负高压的吸引,猛烈地轰击工件表面,致使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出,从而使工件待镀表面得到了充分的离子轰击清洗。随后,接通蒸发源交流电源,蒸发料粒子熔化蒸发,进入辉光放电区并被电离。带正电荷的蒸发料离子,在阴极吸引下,随同氩离子一同冲向工件,当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时,则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。
3.
分类
磁控溅射离子镀
②反应离子镀
③空心阴极放电离子镀
④多弧离子镀。
4.
特点
   
镀层附着性能好,对离子镀后的试件作拉伸试验表明,一直拉到快要断裂时,镀层仍随基体金属一起塑性延伸,无起皮或剥落现象发生; 绕镀能力强,因此这种方法非常适合于镀复零件上的内孔、凹槽和窄缝,等其他方法难镀的部位; 镀层质量好,离子镀的镀层组织致密、无针孔、无气泡、厚度均匀; 清洗过程简化。


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