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真空镀膜的分类

浏览:806 发表时间:2018-02-28 13:21:28

膜是一种物质形态,它所使用的膜材料非常广泛,可以是单质元素或化合物,也可以是无机材料或有机材料。薄膜与块状物质一样,可以是单晶态的,多晶态的或非晶态的。近年来功能材料薄膜和复合薄膜也有很大发展。镀膜技术及薄膜产品在工业上的应用非常广泛,尤其是在电子材料与元器件工业领域中占有及其重要的地位。

 镀膜方法可以分为气相生成法,氧化法,离子注入法,扩散法,电镀法,涂布法,液相生长法等。气相生成法又可分为物理气相沉积法,化学气相沉积法和放电聚合法等。

 真空蒸发,溅射镀膜和离子镀等通常称为物理气相沉积法,是基本的薄膜制备技术。它们都要求淀积薄膜的空间要有一定的真空度。所以,真空技术是薄膜制作技术的基础,获得并保持所需的真空环境,是镀膜的必要条件。

真空系统的种类繁多。在实际工作中,必须根据自己的工作重点进行选择。典型的真空系统包括:获得真空的设备(真空泵),待抽空的容器(真空室),测量真空的器具(真空计)以及必要的管道,阀门和其它附属设备。

 1.真空蒸发镀膜法

真空蒸发镀膜法是在真空室中,加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料,使其原子或分子从表面气化逸出,形成蒸汽流,入射到固体(称为衬底或基片)表面,凝结形成固态薄膜的方法

 2.溅射镀膜

所谓“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面(靶),使固体原子(或分子)从表面射出的现象。射出的粒子大多呈原子状态,通常称为溅射原子。用于轰击靶的荷能粒子可能是电子,离子或中型粒子,因为离子在电场下易于加速并获得所需动能,因此大多采用离子作为轰击粒子。该粒子又称入射离子。由于直接实现溅射的机构是离子,所以这种镀膜技术又称为离子溅射镀膜或淀积。

 3离子镀

多弧离子镀作为物理气相沉积技术的一个分支,是在真空蒸镀和真空溅射的基础上发展起来的一门新型涂层制备技术,也称为真空弧光蒸镀法,它把真空电弧放电用于电弧蒸发源。多弧离子镀膜机是一种高效、无害、无污染的离子镀膜设备,具有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点。

 科技发展愈来愈快,信息高速公路,数字地球等新概念的提出,影响和带动了全球高科技的发展,目前,生命科学,环保科技,材料科学和纳米科技使高科技重点研究的领域;纳米科技中又以纳米电子学为优先研究领域。

 

佛山金欣盛真空专业从事各种真空镀膜应用设备制造和各种产品的镀膜加工,不断引进国外先进的真空镀膜设备,多年来致力于研发和生产真空镀膜机,以最新技术不断制造出满足市场需要的真空电镀设备,为客户提供量身定做般的工艺解决方案和镀膜设备。



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