PVD 即物理气相沉积，分为：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜；通常说的NCVM镀膜，就是指真空蒸发镀膜和真空溅射镀。与传统的电镀法相比,真空镀膜技术具有很多的优点,如装饰效果好,金属感强,成本低(约为传统电镀的1／3～1／2),污染小,真空镀膜设备易于操作等。鉴于此,真空镀膜已被广泛应用于很多领域。

真空蒸镀基本原理：在真空条件下，使金属、金属合金等蒸发，然后沉积在基体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，电子束轰击镀料，使蒸发成气相，然后沉积在基体表面，历史上，真空蒸镀是PVD法中使用最早的技术。

蒸发真空镀膜机具备的特点比较多：例如设备比较简单，容易操作。沉积速率比较大，成膜比较快，相对来说，膜的纯度也是比较高的

 溅射镀膜基本原理：充氩(Ar)气的真空条件下，使氩气进行辉光放电，这时氩(Ar)原子电离成氩离子(Ar )，氩离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。　溅射镀膜中的入射离子，一般采用辉光放电获得，在l0-2Pa～10Pa范围，所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中，易和真空室中的气体分子发生碰撞，使运动方向随机，沉积的膜易于均匀

。磁控溅射真空镀膜设备主要用于各种灯饰、家电、锺表、玩具以及美术工艺等行业，在金属或非金属（塑料、玻璃、陶瓷）等制品镀制铝、铜、铬、钛、锆、不锈钢等系列装饰性膜层。

离子镀基本原理：在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。

多弧离子真空镀膜机的应用范围： 

1、在硬质涂层中的应用：切削工具、模具和耐磨耐腐蚀零件等。

2、在防护涂层中的应用：飞机发动机的叶片、汽车钢板、散热片等。

3、在光学薄膜领域中的应用：增透膜、高反膜、截止滤光片、防伪膜等。

4、在建筑玻璃方面的应用：阳光控制膜、低辐射玻璃、防雾防露和自清洁玻璃等。