简而言之就是汇聚了多弧离子真空镀膜机和磁控溅射真空镀膜机两者的全部用途

　多弧离子镀的技术特点
　多弧离子镀过程的突出特点在于它能产生由高度离化的被蒸发材料组成的等离子体，其中离子具有很高的动能。蒸发、离化、加速都集中在阴极斑点及其附近很小的区域内。其特点如下：
　　（1）最显著的特点是从阴极直接产生等离子体。
　　（2）入射粒子能量高，涂层的致密度高，强度和耐久性好。
　　（3）离化率高，一般可达60%～80%。
　　（4）沉积速度快，绕镀性好。
　　（5）设备较为简单，采用低电压电源工作比较安全。
　　（6）一弧多用，电弧既是蒸发源和离化源，又是加热源和离子溅射清洗的离子源。
　　（7）外加磁场可以改善电弧放电，使电弧细碎，细化涂层微粒，增加带电粒子的速率，并可以改善阴极靶面刻蚀的均匀性，提高靶材的利用率。

磁控溅射又称为高速，低温的溅射技术。它在本质上是按磁控模式运行的二级溅射。

溅射的理论：公认的是碰撞理论，入射离子与固体表面原子发生弹性碰撞后，将其中一部分能量给了原子，该原子的动能超过它与其他原子形成的势垒（对金属约5--10ev)时，原子就会从晶格点阵碰出，形成离位原子，又与其他附近原子发生反复碰撞--联级碰撞。当原子动能超过结合能（1--6ev)时，原子离开表面进入真空室沉积在设置的基体上，形成薄膜。

磁控溅射镀膜设备的性能特点：磁控靶数量多，靶材种类变化大，各种参数变化范围大，所镀制膜层有金属、合金、化合物，可镀制单层或多层膜。

所以多弧加磁控真空镀膜机的应用领域就非常广泛了。不仅在硬质涂层中的应用：切削工具、模具和耐磨耐腐蚀零件等。
2、在防护涂层中的应用：飞机发动机的叶片、汽车钢板、散热片等。
3、在光学薄膜领域中的应用：增透膜、高反膜、截止滤光片、防伪膜等。
4、在建筑玻璃方面的应用：阳光控制膜、低辐射玻璃、防雾防露和自清洁玻璃等。

还包括了各种灯饰、家电、锺表、玩具以及美术工艺等行业，在金属或非金属（塑料、玻璃、陶瓷）等制品镀制铝、铜、铬、钛、锆、不锈钢等系列装饰性膜层。