真空镀膜中的溅bai射du利用了辉光放电原理zhi，因为有电场dao的存在，驱动空气中zhuan的电子和正离shu子运动，电子向正极运动，正离子向阴极运动。离子与电子在运动过程中动能量不断增加，与空气分子碰撞就会不断地产生更多的离子与电子，就造成了辉光的持续放电。

但是辉光放电是有限制的，非真空状态或者真空度过低，就是空气中的分子过多，电子与离子频繁与分子碰撞而积聚不起能量而无法电离分子，所以溅射要求在一定的真空压力下才能实现，必须要采用真空腔体。

pvd镀膜只有在真空中才可以完成。离子镀膜（pvd镀膜）技术。其原理是在真空条件下，采用低电压大电流的电弧放电技术利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离 在电厂的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。