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影响真空镀膜镀层光泽的因素

浏览:213 发表时间:2020-06-06 09:32:59


影响真空镀膜镀层光泽的几种因素有:

真空镀膜室本底真空度、偏压、反应气体的纯度及分压以及被镀属的纯度。

(1)、真空镀膜室本底真空度不仅影响膜层的附着力,而且蒸镀过程中与反应气体反应时,其它残余气体在高温和电场的作用下也进行电离和分解,这样就影响反应气体的纯度,从而污染真空镀膜镀层表面,降低真空镀膜膜层的反射率。

(2)、偏压前面已叙述过,对真空镀膜镀装饰膜而言,真空镀膜镀装饰膜偏压一般选为0,30伏,偏压过高出现反溅射,从而影响沉积速率及影响真空镀膜镀膜层的光泽。但离子动能较大能增强粒子的扩散能力,覆盖面上减少针孔,从而防腐蚀能力大大提高,这一点正好适用于制备单纯的防腐膜。

(3)、真空镀膜被镀金属及反应气体的纯度。根据试验得知,真空镀膜被镀金属的纯度不小于99.99%,反应气体N的纯度不2应99.99%, CH、O一般使用工业用的99.5%,真空222镀膜被镀金属的材质不纯时,当电子束打到坩埚时,真空高温状态下会出现由于不断放气及暴埚现象,影响真空镀膜膜层质量和光泽。



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