离子镀法镀膜法是将真空镀膜的蒸发工艺与溅射法的溅射工艺相结合的一种新工艺，即蒸发后的气体在辉光放电中，在碰撞和电子撞击的反应中形成离子，在电场中被加速，而后在玻璃板上凝结成膜。该法的优点有:复杂形状待镀材料有相对均匀的镀层,膜与玻璃表层有极强的附着力,高的镀膜率,膜的密度高,玻璃被加热。

离子溅射镀膜是在部分真空的溅射室中辉光放电，产生正的气体离子;在阴极(靶)和阳极(试样)间电压的加速作用下，荷正电的离子轰击阴极表面，使阴极表面材料原子化;形成的中性原子，从各个方向溅出，射落到试样的表面，于是在试样表面上形成一层均匀的薄膜。所以说这种形成干涉膜的方法与湃澎霍夫蒸发的方法相似。由于阴极表面被击出的材料主要是中性原子，如果离子碰撞的能量是低的，即在低的加速电压下，击出的原子数目是相当少的，可忽略不计;在高能离子的撞击下，即加速电压超过500V，实际上每个离子能从靶材表面击出一个原子。从靶材表面溅出原子的速度，主要决定于靶材、加速电压，气压和气氛的性质。