专注于PVD设备制造

                 让真空镀膜变得更简单

专注于PVD设备制造

        让真空镀膜变得更简单

        服务咨询热线:18098178927

客服中心
热线电话
0757-82535205
手机
18098178927
二维码
搜索
图片展示
图片展示

磁控溅射镀膜机的工作原理是什么?

浏览:397 发表时间:2020-04-10 08:26:59

    电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响,被束缚在靠近靶面的等离子体区域内,该区域内等离子体密度很高,二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动,该电子的运动路径很长,在运动过程中不断的与氩原子发生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材,经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低,摆脱磁力线的束缚,远离靶材,最终沉积在基片上。磁控溅射就是以磁场束缚和延长电子的运动路径,改变电子的运动方向,提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量。电子的归宿不仅仅是基片,真空室内壁及靶源阳极也是电子归宿。但一般基片与真空室及阳极在同一电势。磁场与电场的交互作用( E X B drift)使单个电子轨迹呈三维螺旋状,而不是仅仅在靶面圆周运动。至于靶面圆周型的溅射轮廓,那是靶源磁场磁力线呈圆周形状形状。磁力线分布方向不同会对成膜有很大关系。在E X B shift机理下工作的不光磁控溅射,多弧镀靶源,离子源,等离子源等都在次原理下工作。所不同的是电场方向,电压电流大小而已。

   磁控溅射的基本原理是利用 Ar一02混合气体中的等离子体在电场和交变磁场的作用下,被加速的高能粒子轰击靶材表面,能量交换后,靶材表面的原子脱离原晶格而逸出,转移到基体表面而成膜。磁控溅射的特点是成膜速率高,基片温度低,膜的粘附性好,可实现大面积镀膜。该技术可以分为直流磁控溅射法和射频磁控溅射法。



金欣盛真空专注于真空镀膜设备行业

为客户提供专业的真空镀膜解决方案


及时+专业  售前售后保养无忧!

联系方式

地址:广东省佛山市南海区狮山镇罗村务庄大丰田工业区金丰工业园牛栏尾路1街14号

电话:0757-82535205(传真同号)

手机:18098178927  洪先生(微信同号)

邮箱:fs-jxs@qq.com

Q Q : 3171828742

我们的产品:

多弧离子真空镀膜机

磁控溅射真空镀膜机

蒸发真空镀膜机



更多产品咨询:

18098178927

友情链接  版权所有©佛山市金欣盛真空设备有限公司   备案号:粤ICP备15031054号-1  技术支持: 道昱科技